euv原理

EUV極紫外光微影技術.ASML是全世界唯一採用極紫外光的微影設備製造商。為了能控制EUV極紫外光光源，並推動EUV微影系統商用化，20多年來，ASML持續投入研發，克服各種 ...,2023年10月16日—簡單來說，為了正式引進EUV設備，需要由多層透鏡和曝光吸收層（Absorber）組成的無缺陷光罩，超薄膜、高強度、高均勻透射率的光罩護膜（Pellicle），以及 ...,2021年2月15日—EUV光的產生是用二氧化碳雷射每秒5萬次去轟擊液態錫滴。出來的EU...

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ASML

EUV 極紫外光微影技術. ASML是全世界唯一採用極紫外光的微影設備製造商。為了能控制EUV極紫外光光源，並推動EUV微影系統商用化，20多年來，ASML持續投入研發，克服各種 ...

什麼是EUV？它能製造先進製程晶片，但有3個缺點需要克服

2023年10月16日 — 簡單來說，為了正式引進EUV 設備，需要由多層透鏡和曝光吸收層（Absorber）組成的無缺陷光罩，超薄膜、高強度、高均勻透射率的光罩護膜（Pellicle），以及 ...

挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程

2021年2月15日 — EUV 光的產生是用二氧化碳雷射每秒5 萬次去轟擊液態錫滴。出來的EUV 光通過一個直徑為0.65 公尺的橢球反光鏡送進微影機台裡頭。錫滴位於橢球反光 ...

摩爾定律的華麗謝幕：EUV微影機

2020年10月22日 — 此機的概念是由中研院院士林本堅任職於台積電所提出的，原理上當光通過液體介質的時候，其速度會變慢，也就是波長會變短。因此若將被曝光的晶圓浸泡在 ...

EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術

2020年12月4日 — EUV，全名為Extreme Ultraviolet，中文叫做「極紫外光」，是一種波長極短的紫外光，一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米，而極紫外光才 ...

藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射

EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案：透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但如何先形成電漿？發生器讓錫 ...

極紫外光微影製程

EUV光罩與傳統光罩也截然不同，具複合多塗層反射鏡(分散式布拉格反射器)的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜光罩雖然可維持光罩的反射率，但另一方面會影響臨界線 ...

全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光

2023年3月10日 — 簡單來說，當工程師規劃好晶圓上各區域的功能後，會將電路圖刻在石英片上面，製作成「光罩」，當光束從光罩上方照下來，透過由透鏡組成的光學系統，照射到 ...

EUV 極紫外光！一個你應該知道與台積電相關的技術

2021年5月27日 — 紫外光經過光罩後，利用各種光學原理將光束射在晶圓上，就可以在上面刻出精細的電路圖了。我們再把這片晶圓切成一顆顆原始晶片。而因為這項技術牽涉到 ...