光罩原理

由吳政三著作·2012—曝光機的原理和照相機基本上是類似的，完成光阻塗佈的晶圓.就如同底片一樣，而光罩就是我們要照的影像，只是曝光機的解析.度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...,微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...,,本文將依次討論.相轉移光罩的概論及原理、製程技術及.其在...

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工學院半導體材料與製程設備學程

由 吳政三 著作 · 2012 — 曝光機的原理和照相機基本上是類似的，完成光阻塗佈的晶圓. 就如同底片一樣，而光罩就是我們要照的影像，只是曝光機的解析. 度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...

微影製程再進化！複雜電路的祕密

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

光罩

相轉移光罩技術

本文將依次討論. 相轉移光罩的概論及原理、製程技術及. 其在成像應用上的好處。 導論. 在介紹相轉移光罩之前，讓我們先. 回顧一下兩個極為重要的光學 ...

IC光罩應用介紹及其未來發展

形讀寫機及雷射光罩圖形讀寫機。圖二. 為光罩製作流程圖。 二、相位移光罩(Phase Shift Mask,. PSM). 1982年IBM Mr. David Levenson發明. 了相位移光罩，主要的原理是利用 ...

隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案

光罩是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所 ...

光罩

光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。