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光罩原理
由吳政三著作·2012—曝光機的原理和照相機基本上是類似的,完成光阻塗佈的晶圓.就如同底片一樣,而光罩就是我們要照的影像,只是曝光機的解析.度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...,微影製程是將電路圖案,透過已刻好圖案的光罩及光阻,「轉印」到晶圓...
IC光罩應用介紹及其未來發展
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形讀寫機及雷射光罩圖形讀寫機。圖二.為光罩製作流程圖。二、相位移光罩(PhaseShiftMask,.PSM).1982年IBMMr.DavidLevenson發明.了相位移光罩,主要的原理是利用 ...
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