台積電浸潤式曝光

2017年6月6日—時任台積電研發副總的林本堅博士發明了浸潤式蝕刻，一舉打破了波長的限制。光在液體中跑得慢，波長也短。利用這個原理，把晶圓泡在液體中就在相同的光源下 ...,2004年12月22日—台灣積體電路製造股份有限公司今(22)日表示，已經順利使用浸潤式曝影(immersionlithography)機台產出90奈米晶片，並且通過功能驗證，意謂著浸潤式曝 ...,2006年2月22日—浸潤式曝光顯影技術突破了目前這個世代(193奈米)曝光顯影機台的限...

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次10奈米世代的半導體怎麼做？

2017年6月6日 — 時任台積電研發副總的林本堅博士發明了浸潤式蝕刻，一舉打破了波長的限制。光在液體中跑得慢，波長也短。利用這個原理，把晶圓泡在液體中就在相同的光源下 ...

台積公司成功使用浸潤式曝影機台產出經過功能驗證的90奈 ...

2004年12月22日 — 台灣積體電路製造股份有限公司今(22)日表示，已經順利使用浸潤式曝影(immersion lithography)機台產出90奈米晶片，並且通過功能驗證，意謂著浸潤式曝 ...

台積公司表示浸潤式曝光顯影技術不久後可邁入量產

2006年2月22日 — 浸潤式曝光顯影技術突破了目前這個世代(193奈米) 曝光顯影機台的限制，使其能夠繼續用於製造更先進技術的晶片。這一點，是半導體製程技術邁入更先進世代的 ...

全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光

2023年3月10日 — 台積電前研發副總經理、中央研究院院士林本堅成功研發「浸潤式微影技術（immersion lithography）」，在保持使用ArF 光源的條件下，改以「水」取代空氣 ...

微影技術的未來浸潤式vs.奈米壓印式

台積電為推動浸潤式微影技術，這二年多以來努力推廣該技術的可行性，主要是因為台積電的研發結果發現，將193奈米微影設備加入浸潤功能後，無需更換193奈米所需之光阻材料， ...

林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來

難能可貴的是，台積電雖然在193奈米浸潤式微影曝光機成功引領新技術，但並未獨占此專利，林本堅表示：「專利最好是能達到合作功效，而非拿來抵制！」 2005年底，在半導體 ...

創造半導體兩次大躍進台積電林本堅10奈米要再衝一次

林本堅提出以水為介質的193奈米浸潤式曝光機，是半導體製程技術可以一直微縮至28奈米、20奈米、16奈米等先進製程的重要關鍵突破，根據IEEE統計，現今半導體產業85%的電晶體 ...

想說服我的老闆阻止我」林本堅當時到台積電工作兩年

2022年6月10日 — 在台積電支持下，林本堅和組內的同仁寫好幾篇論文，從理論的觀點證明浸潤式微影的可行性及優勢，後來說服ASML放棄原先157奈米乾式微影曝光機的研發，轉向 ...

一路撐到5奈米！台積電大老超狂技術蔣爸、張忠謀都佩服

2022年1月3日 — ... 浸潤式（Immersion）微影技術，並在5奈米製程擴大使用，甚至如今還成為全球擁有最多EUV機台的廠商。 林本堅身為推動浸潤式微影技術的台積電前研發大將 ...

台積電重要推手！浸潤式微影之父林本堅院長！