微影技術原理

IC愈做愈小的關鍵技術在於光學微影（OpticalLithography）。光學微影簡單來說，就是在製作元件的過程中，將元件的組成材料依所需位置「印」在半導體晶 ...,其基本原理為將欲產生之三維結構圖案.轉化成一256階的灰階圖檔，再藉由此外掛程式將.灰階分布轉化成相對的電子劑量分布，經由微影製.程後即可得到三維的奈米結構。如 ...,將光阻溶液噴灑在矽片表面；·加速旋轉託盤（矽片），直到達到所需的旋轉速度；·達到所需的旋轉速度...

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噔噔愣噔愣～縮小術！用光學微影把IC 晶片變小了

IC 愈做愈小的關鍵技術在於光學微影（Optical Lithography）。光學微影簡單來說，就是在製作元件的過程中，將元件的組成材料依所需位置「印」在半導體晶 ...

電子束微影技術及其在奈米科技上之應用

其基本原理為將欲產生之三維結構圖案. 轉化成一256 階的灰階圖檔，再藉由此外掛程式將. 灰階分布轉化成相對的電子劑量分布，經由微影製. 程後即可得到三維的奈米結構。 如 ...

微影

將光阻溶液噴灑在矽片表面； · 加速旋轉託盤（矽片），直到達到所需的旋轉速度； · 達到所需的旋轉速度之後，以這一速度保持一段時間。以旋轉的托盤為參考系，光阻在隨之旋轉 ...

奈米世代微影技術之原理及應用

該技術乃是應用F2準分子雷射作為曝光光源，以得到更好的解析度。空氣中的水氣與氧氣對於此一波長範圍的光有很強的吸收；故157 nm微影必需要在真空或通入氮氣淨化的環境下 ...

微影製程再進化！複雜電路的祕密

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

第一章緒論

讓摩爾定律成真的關鍵： 微影技術— 影響七十億以上個未來

光學微影技術. 那微影技術的基本原理是甚麼呢？其實非常類似. 於我們日常生活中在照相及沖洗底片，只是大家需要想. 像，原本的風景或是人物是要感光在底片上，而現今的. 微 ...