微影技術原理
微影技術將面臨愈來愈嚴苛的挑戰,沒有革命性的發展能輕易解決微影技術所面臨的難題。降低波長(轉移至157nm的成本相當昂貴)、增加數值孔徑(浸入式微影會讓數值孔徑增加 ...,半導體製程中要將晶片上.的電路更縮小化,就需要更短波長的雷射光源,或是使用浸潤式光學微...
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- EUV 優點
- euv原理
- 浸潤式immersion微影技術
- 193 nm immersion lithography
- 微影技術原理
- euv光源
- 微影技術原理
- 微影技術原理
- euv波長
- 超紫外光
- euv原理
- Overlay 半導體
- EUV lithography 原理
- 193奈米浸潤式微影技術
- 台積電浸潤式曝光
- arf immersion lithography
- duv euv
- 微影技術原理
- EUV 曝光 原理
- 浸潤式微影技術
- 浸潤式微影技術
- Double Patterning 原理
- EUV lithography 原理
- 浸潤式微影技術
- 微影技術原理
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