微影

微影技術將面臨愈來愈嚴苛的挑戰，沒有革命性的發展能輕易解決微影技術所面臨的難題。降低波長(轉移至157nm的成本相當昂貴)、增加數值孔徑(浸入式微影會讓數值孔徑增加 ...

半導體製程中要將晶片上. 的電路更縮小化，就需要更短波長的雷射光源，或是使用浸潤式光學微影製程等方式，以便在. 光刻製程中，用雷射光刻出間距更小的電路圖。光線的波長決定 ...

2023年12月6日 — NIL 的基本原理是利用壓印的方式，將光罩模板上製作好的圖案，直接壓 ... 奈米壓印技術（NIL）是一種超越傳統微影技術局限的新型製程，有更低的 ...

此技術的優點是系統透鏡組會移動，因此電子束之中心軸會移動，可以將電子束進行移動曝光，具有局部快速掃瞄的特性。此技術屬於電子束投射微影術之一種，經IBM公司研發後並與 ...

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形 ...

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

光學微影技術. 那微影技術的基本原理是甚麼呢？其實非常類似. 於我們日常生活中在照相及沖洗底片，只是大家需要想. 像，原本的風景或是人物是要感光在底片上，而現今的. 微影 ...