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微影技術原理
IC愈做愈小的關鍵技術在於光學微影(OpticalLithography)。光學微影簡單來說,就是在製作元件的過程中,將元件的組成材料依所需位置「印」在半導體晶 ...,其基本原理為將欲產生之三維結構圖案.轉化成一256階的灰階圖檔,再藉由此外掛程式將.灰階分布轉化成相對的電...
微影製程再進化!複雜電路的祕密
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微影製程是將電路圖案,透過已刻好圖案的光罩及光阻,「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說,在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上(見下圖),我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...
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