193奈米浸潤式微影技術

2022年9月12日—隨著浸潤式微影技術成為顯學,整個業界157奈米的開發正式停止,取而代之是浸潤式的193奈米;193奈米第一個導入的製程是45奈米,台積電就此拉大領先聯電的 ...,據業界消息,台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式(immersion)微影技術,又向前邁進一步,該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹,並正式移入 ...,再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機...

【林本堅專訪3】被譽為「浸潤式微影之父」「半導體界愛因斯坦」

2022年9月12日 — 隨著浸潤式微影技術成為顯學,整個業界157奈米的開發正式停止,取而代之是浸潤式的193奈米;193奈米第一個導入的製程是45奈米,台積電就此拉大領先聯電的 ...

193奈米機台到位台積電浸潤式微影邁新局

據業界消息,台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式(immersion)微影技術,又向前邁進一步,該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹,並正式移入 ...

創造半導體兩次大躍進台積電林本堅10奈米要再衝一次

再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機、193乾式曝光機等,193奈米浸潤式技術可以從65奈米、40奈米、28奈米、16奈米、10奈米製程 ...

浸潤式微影技術

2013年10月13日 — 光波在真空裡面大概是193奈米的波長,它到了水之後,因為水的那個折射率是1.44,普通在真空是1,所以到了水裡,波長從193掉到134奈米,光的波長減短了,那 ...

微影技術的未來浸潤式vs.奈米壓印式

台積電為推動浸潤式微影技術,這二年多以來努力推廣該技術的可行性,主要是因為台積電的研發結果發現,將193奈米微影設備加入浸潤功能後,無需更換193奈米所需之光阻材料, ...

浸潤式微影技術的問世與挑戰

2022年8月14日 — 這項技術的原理,便是利用介改變造成光線折射的原理,讓原本的波長改變,從而可以生成更小的波長。若以193奈米當做基底,則可以生成134奈米的光,甚至遠遠 ...

衝破晶圓製造瓶頸的一滴水

應用浸潤式微影技術,可以在晶圓上投射出更微小的電路,但是水裡的微氣泡會使電路的完整性受到破壞。 193奈米的微影技術機台早已歷經時間的考驗,晶片廠可把重點放在這個 ...

林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來

在193奈米波長的基礎上,林本堅利用最不起眼的「水」,演繹了完美的光魔術,他在193奈米乾式微影鏡頭前滴上一層一公釐至二公釐的水,讓波長變短。波長越短,越強解析度的 ...