euv波長
ProzessderEUVLithografiemitLasernvonTRUMPF.EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案:透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但 ...,2021年2月15日—因為是第一次採用雷射電漿(laser-producedplasma,LPP)技術來產生波長為13.5奈米的...
全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光
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2023年3月10日—極紫外光(Extremeultraviolet,EUV)是波長小於13.5奈米的光,使用EUV作為光源的曝光機,即為EUV曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少 ...
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