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euv波長
ProzessderEUVLithografiemitLasernvonTRUMPF.EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案:透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但 ...,2021年2月15日—因為是第一次採用雷射電漿(laser-producedplasma,LPP)技術來產生波長為13.5奈米的...
藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射
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