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euv波長
ProzessderEUVLithografiemitLasernvonTRUMPF.EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案:透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但 ...,2021年2月15日—因為是第一次採用雷射電漿(laser-producedplasma,LPP)技術來產生波長為13.5奈米的...
摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機
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2020年10月22日—微影機的光源坐落於紫外光,波長介於10~400奈米之間。從早期的光源來自於汞燈的g-line及i-line,一旦製程線寬小於100奈米,所使用的光源 ...
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