何謂微影技術

微影系統本質上是一個投影系統，利用光線穿透印有電路圖的光罩，在矽晶片上投印出電路圖。 光罩上的電路圖是實際在晶片上呈現圖案的4倍大。透過光線投射出光罩上的圖案，微 ...

2009年8月30日 — 利用光微影技術可以把對應於複雜電路的圖案，形成於晶圓表面。 首先必須製作一個矩形石英板，它是含有所需圖樣的透明石英板。而石英板上不透明（暗色）部 ...

• 極紫外線(EUV)微影技術. • X光微影技術. • 電子束(E-beam)微影技術. 晶圓. 遮蓋板. 透鏡. 透鏡. 透鏡. 電子槍. 折射光圈. 散光像差補償. 器. 44. 相位移光罩圖案化.

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...

由 吳國裕 著作 · 2007 · 被引用 1 次 — 曝光是微影製程中最重要的一環，其原理並不複雜，但是因為尺寸的微小以精度的要. 求，使得曝光製程在技術上變的相當困難，由於IC 都是以十幾層以上不同 ...

智慧手機堪稱現代的科技藝術品，則是由科學家利用物理、化學、材料、機械等特性，在晶圓上完成奈米等級電子元件圖形的定義，這種圖形定義的方法在半導體製程中稱為『微影 ...

黃光微影製程技術. Lithography Process Technology. 楊啟榮博士. 副教授. 國立台灣師範 ... ○光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移. 至光阻 ...