gidl效應

由羅以倫著作·2010—GIDL效應和糾結效應。本實驗雖然犧牲了少許次臨界擺幅和驅動電流特性,但明顯的抑制了閘極引.發漏電流(GIDL),而提升了元件的整體特性。但在本實驗沒有測試出非對稱閘 ...,本发明提供的减小MOSIO器件GIDL效应的方法,在多晶硅栅刻蚀形成后,先进行IO器件的源漏扩展区的离子注入,然后进行多晶硅氧化形成氧化层。MOSIO器件源漏扩展区离子 ...,GIDL(gate-induceddrainleakage)是指柵誘導漏極泄漏電流,對MOSFE...

1.1 環繞式閘極電晶體與多晶矽薄膜電晶體回顧

由 羅以倫 著作 · 2010 — GIDL效應和糾結效應。 本實驗雖然犧牲了少許次臨界擺幅和驅動電流特性,但明顯的抑制了閘極引. 發漏電流(GIDL),而提升了元件的整體特性。但在本實驗沒有測試出非對稱閘 ...

CN102456554A

本发明提供的减小MOS IO器件GIDL效应的方法,在多晶硅栅刻蚀形成后,先进行IO器件的源漏扩展区的离子注入,然后进行多晶硅氧化形成氧化层。MOS IO器件源漏扩展区离子 ...

GIDL_百度百科

GIDL(gate-induced drain leakage) 是指柵誘導漏極泄漏電流,對MOSFET的可靠性影響較大。

MOSFET的GIDL和BIDL效用

对于MOS器件尺寸减小,会带来短沟道效应。其中就有GIDL (gate induced drAIn leakage)和DIBL(drain induced barrier lowering)。不知道在器件分析的时候,I-V ...

MOS器件理论之–DIBL, GIDL (转)

2019年6月19日 — 2) GIDL (Gate-Induced-Drain-Leakage):栅感应漏极漏电流。我们通常讲MOSFET漏电流(Ioff),都知道是漏源之间亚阈值漏电流,或者Drain到Well的PN结漏 ...

低溫複晶矽薄膜電晶體中汲極漏電流抑制方法之研究

由 張宜菁 著作 · 2010 — 在實驗方面,本論文探討熱電洞注入效應對元件的影響,利用能帶間熱電洞的注入效應,改善閘極引發汲極漏電流(Gate-induced-drain-leakage current, GIDL),增加低溫複晶 ...

半导体器件——GIDL篇

2021年9月25日 — Definition: Gate Induced Drain Leakage; 以NMOS为例,当gate不加压或加负压,drain端加高电压, 使得gate和drain的交叠区域出现了一个从drain ...

奈米科技研究所

由 許子訓 著作 · 2007 — 而β電流增益隨基極寬度減小而增大,因此當元件通. 道縮短,會造成GIDL電流放大,此為短通道效應之一[37]。 圖4-14為在不同的閘極長度下,所觀察到的GIDL,元件在固定的Vd= ...

閘極蝕刻與鰭式結構對於場效電晶體特性 ...

電子屏蔽效應(screening effect),閘極控制能力必然不如汲極,故汲極會在遠離閘 ... (gate-induced drain leakage)(GIDL),. 發生於閘極電壓遠小於汲極電壓時的汲極空乏 ...