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193奈米浸潤式微影技術
據業界消息,台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式(immersion)微影技術,又向前邁進一步,該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹,並正式移入 ...,再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機、193乾式曝光...
創造半導體兩次大躍進台積電林本堅10奈米要再衝一次
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再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機、193乾式曝光機等,193奈米浸潤式技術可以從65奈米、40奈米、28奈米、16奈米、10奈米製程 ...
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