193奈米浸潤式微影技術
據業界消息,台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式(immersion)微影技術,又向前邁進一步,該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹,並正式移入 ...,再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機、193乾式曝光...
微影技術的未來浸潤式vs.奈米壓印式
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台積電為推動浸潤式微影技術,這二年多以來努力推廣該技術的可行性,主要是因為台積電的研發結果發現,將193奈米微影設備加入浸潤功能後,無需更換193奈米所需之光阻材料, ...
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