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微影技術原理
IC愈做愈小的關鍵技術在於光學微影(OpticalLithography)。光學微影簡單來說,就是在製作元件的過程中,將元件的組成材料依所需位置「印」在半導體晶 ...,該技術乃是應用F2準分子雷射作為曝光光源,以得到更好的解析度。空氣中的水氣與氧氣對於此一波長範圍的光有...
微影製程再進化!複雜電路的祕密
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微影製程是將電路圖案,透過已刻好圖案的光罩及光阻,「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說,在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上(見下圖),我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...
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