360°科技－浸潤式微影

濕式蝕刻製程的功能，是將晶片浸沒於化學溶液中，將進行微影製程前所沈積的薄膜，把沒有被光阻覆蓋及保護的部分，利化學溶液與晶片表面產生氧化還原作用的化學反應的 ...

2013年10月13日 — 既然「微影」是透過曝光，把電路的圖形縮小印在晶片上，那麼，印出電路圖的線寬愈細，元件就會愈精密。然而，在線寬縮到65奈米的時候，全球的半導體產業卻 ...

2022年8月14日 — 大量的資金投入，各大公司的研發都苦於解決問題時，林本堅院士從微影技術上下手，提出從傳統的乾式微影，轉移成浸潤式濕式微影技術。這項技術的原理 ...

2007年5月23日 — 過去乾式曝光顯影是在無塵室中，以空氣為媒介進行，透過光罩在晶圓上顯影；而浸潤式微影(immersion lithography)則是以水為透鏡，在晶圓與光源間注入 ...

2021年10月26日 — ... 微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總公司：栃木縣小山市；總裁：浦中克己）宣布，最尖端的ArF濕浸式微影光源「GT66A」已在世界半導體廠正式運作中。

2014年12月24日 — ... 水裡，波長從193掉到134奈米，光的波長減短了，那它的解析度也就會增加了。 這種「加了水」的微影技術，就叫做浸潤式微影技術。因為光的波長縮短到134 ...

過去半導體晶片製程中，主要採用乾式曝光，以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質，把光罩上的圖形在晶圓上成像；而浸潤式微影則是以水為介質，在鏡頭和晶圓之間注入水，光的波長在 ...

2012年12月20日 — 上述原理是利用光通過液體介質時會彎折的特性──把筆直的筷子插在裝滿水的玻璃杯時，會看到好像折斷了──因為如此，顯微鏡的影像透過浸濕的鏡頭會進一步 ...

將微影(Lithography)技術. 所產生的光阻圖形，轉印到光阻底下的材質上，用以形成整個積體電路應有的複雜架構，因此. 蝕刻技術與微影技術統稱之圖案轉印技術。 所謂的蝕刻 ...

顯影：表面張力效應、濕式顯影限制了最後光阻應用的深寬比（aspect ratio）。 6. 蝕刻：濕式蝕刻會造成底切（undercut），乾式蝕刻也有深寬比限制。 ULSI元件量產用的 ...