濕式微影
濕式蝕刻製程的功能,是將晶片浸沒於化學溶液中,將進行微影製程前所沈積的薄膜,把沒有被光阻覆蓋及保護的部分,利化學溶液與晶片表面產生氧化還原作用的化學反應的 ...,2013年10月13日—既然「微影」是透過曝光,把電路的圖形縮小印在晶片上,那麼,印出電路圖的線...
2013年10月13日—既然「微影」是透過曝光,把電路的圖形縮小印在晶片上,那麼,印出電路圖的線寬愈細,元件就會愈精密。然而,在線寬縮到65奈米的時候,全球的半導體產業卻 ...
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濕式蝕刻製程的功能
濕式蝕刻製程的功能,是將晶片浸沒於化學溶液中,將進行微影製程前所沈積的薄膜,把沒有被光阻覆蓋及保護的部分,利化學溶液與晶片表面產生氧化還原作用的化學反應的 ...
浸潤式微影技術
2013年10月13日 — 既然「微影」是透過曝光,把電路的圖形縮小印在晶片上,那麼,印出電路圖的線寬愈細,元件就會愈精密。然而,在線寬縮到65奈米的時候,全球的半導體產業卻 ...
浸潤式微影技術的問世與挑戰
2022年8月14日 — 大量的資金投入,各大公司的研發都苦於解決問題時,林本堅院士從微影技術上下手,提出從傳統的乾式微影,轉移成浸潤式濕式微影技術。這項技術的原理 ...
360°科技-浸潤式微影
2007年5月23日 — 過去乾式曝光顯影是在無塵室中,以空氣為媒介進行,透過光罩在晶圓上顯影;而浸潤式微影(immersion lithography)則是以水為透鏡,在晶圓與光源間注入 ...
正式運作最尖端ArF濕浸式微影光源「GT66A」
2021年10月26日 — ... 微影光源製造商Gigaphoton株式會社(總公司:栃木縣小山市;總裁:浦中克己)宣布,最尖端的ArF濕浸式微影光源「GT66A」已在世界半導體廠正式運作中。
浸潤式微影與EUV技術
2014年12月24日 — ... 水裡,波長從193掉到134奈米,光的波長減短了,那它的解析度也就會增加了。 這種「加了水」的微影技術,就叫做浸潤式微影技術。因為光的波長縮短到134 ...
林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來
過去半導體晶片製程中,主要採用乾式曝光,以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質,把光罩上的圖形在晶圓上成像;而浸潤式微影則是以水為介質,在鏡頭和晶圓之間注入水,光的波長在 ...
浸潤式微影壽命延長EUV恐無出頭天?
2012年12月20日 — 上述原理是利用光通過液體介質時會彎折的特性──把筆直的筷子插在裝滿水的玻璃杯時,會看到好像折斷了──因為如此,顯微鏡的影像透過浸濕的鏡頭會進一步 ...
微影照像
顯影:表面張力效應、濕式顯影限制了最後光阻應用的深寬比(aspect ratio)。 6. 蝕刻:濕式蝕刻會造成底切(undercut),乾式蝕刻也有深寬比限制。 ULSI元件量產用的 ...