![locos製程](https://host.easylife.tw/files/RiotIsolator.png)
locos製程
【先前技術】.在目前半導體製程中,一般採用區域氧化法(localizedoxidationisolation,LOCOS)或是淺溝隔離(shallowtrenchisolation,STI)方法來.進行元件之間的隔離, ...,▫LOCOS和PBL運作地很好當圖形尺寸>0.5μm時.▫當圖形尺寸
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前言:.區域矽氧化法(LocalOxidationofSilicon),通常簡稱LOCOS,從.30多年前公開迄今,它不但是.VLSI製程技術中,最重要的發明之.
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