sti淺溝槽
淺溝槽絕緣(STI).▫LOCOS和PBL運作地很好當圖形尺寸>0.5μm時.▫當圖形尺寸
淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰
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從IC元件設計的觀點而言,淺溝.渠隔離技術(ShallowTrenchIsolation,.STI)比起先前區域性矽表面氧化隔離技.術(LOCalOxidationofSilicon,LOCOS).擁有多項的製程及 ...
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