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lpcvd原理
CVD原理.◇反應氣體從反應器的主氣流裏,藉著反應氣體在主氣流及晶片.表面間的...◇LPCVD法來沉積的薄膜,將具備較佳的階梯覆蓋能力。且.因為氣體分子間的碰撞頻率 ...,薄膜沈積機構發生順序:長晶→晶粒成長→晶粒聚結→縫道填補→沈積.膜成長。Page4.【LPCVDPolySi】壓...
常用的鍍膜製程
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(2)LPCVD的沉積過程主要是由表面反.應速率控制,而表面反應速率對溫.度的變化...PECVD的沈積原理與一般的CVD之間並沒有太大的差異。電漿中的反.應物是化學活性較 ...
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