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準分子雷射退火
本研究使用波長為248nm的KrF準分子雷射退火,針對薄膜電晶體之主動層氧化銦鎵鋅的氧空缺含量進行調整,藉由脈衝雷射提供的能量提升薄膜內氧空缺數量,進而達到提升載 ...,在上述之習知技術中,在用以作橫向結晶成長的雷射退火工程、及作為橫向結晶成長的前處理工程...
準分子雷射正面與背面退火矽膜的再結晶特性研究
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本研究運用具奈秒解析度之原位即時光學檢測技術,研究準分子雷射正面退火(Frontexcimerlaserannealing,FrontELA)與背面退火(Backexcimerlaserannealing, ...
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