淺溝槽絕緣sti
淺溝槽絕緣(STI).▫LOCOS和PBL運作地很好當圖形尺寸>0.5μm時.▫當圖形尺寸
工學院半導體材料與製程設備學程碩士論文
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由嚴永民著作·2011—...絕緣的淺溝槽隔離製程(Shallow.TrenchIsolation,STI)也就變得愈來愈重要。然而,淺溝槽隔離技術有許多問題尚需解決,應力之問題是一個.重要研究方向。應力會造成如 ...
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