![arf immersion](https://host.easylife.tw/files/Immersive%20Explorer.gif)
Immersionlithographyisatechniqueusedinsemiconductormanufacturingtoenhancetheresolutionandaccuracyofthelithographicprocess.,2019年6月10日—12吋晶圓主要光刻機為ArFimmersion機台,可涵蓋45nm一路往下到7nm節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到193nm;針對7...
ArF immersion
- EUV 曝光 原理
- EUV 優點
- 193奈米浸潤式微影技術
- 浸潤式immersion微影技術
- 193 nm immersion lithography
- euv原理
- 微影 技術應用
- euv波長
- immersion lithography 原理
- 台積電浸潤式曝光
- immersion lithography
- what is immersion lithography
- 浸潤式immersion微影技術
- 超紫外光
- Double Patterning 原理
- lithography意思
- arf immersion lithography
- duv euv
- arf immersion lithography
- euv波長
- Overlay 半導體
- 浸潤式微影技術
- total immersion
- immersion lithography 原理
- arf immersion
Leadingthepack;Cuttingedgelithography;LowLWR;Lowdefectivity;LowMEEF(maskerrorenhancementfactor).JSRArFImmersionPhotoresistwithDualHM.
** 本站引用參考文章部分資訊,基於少量部分引用原則,為了避免造成過多外部連結,保留參考來源資訊而不直接連結,也請見諒 **