arf immersion
Immersionlithographyisatechniqueusedinsemiconductormanufacturingtoenhancetheresolutionandaccuracyofthelithographicprocess.,2019年6月10日—12吋晶圓主要光刻機為ArFimmersion機台,可涵蓋45nm一路往下到7nm節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到193nm;針對7...
Characterization of ArF immersion process for production
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由JHChen著作·2005·被引用31次—ArFimmersionlithographyisessentialtoextendopticallithography.Inthisstudy,wecharacterizedtheimmersionprocessonproductionwafers.
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