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Immersionlithographyisatechniqueusedinsemiconductormanufacturingtoenhancetheresolutionandaccuracyofthelithographicprocess.,2019年6月10日—12吋晶圓主要光刻機為ArFimmersion機台,可涵蓋45nm一路往下到7nm節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到193nm;針對7...
半導體先進製程發展擴大EUV 市場需求,ASML 可望持續受惠
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2019年6月10日—12吋晶圓主要光刻機為ArFimmersion機台,可涵蓋45nm一路往下到7nm節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到193nm;針對7nm節點以下製程,EUV(Extreme ...
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