準分子雷射退火
本研究使用波長為248nm的KrF準分子雷射退火,針對薄膜電晶體之主動層氧化銦鎵鋅的氧空缺含量進行調整,藉由脈衝雷射提供的能量提升薄膜內氧空缺數量,進而達到提升載 ...,在上述之習知技術中,在用以作橫向結晶成長的雷射退火工程、及作為橫向結晶成長的前處理工程...
準分子退火矽膜之再結晶機制研究
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2008年5月23日—其中,BacksideELA為準分子雷射光經過玻璃基板後,先照射SiO2後再照射非晶矽膜,由於SiO2對於準分子雷射之吸收係數與非晶矽相比差5個等級(order),因此 ...
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