台積電 浸潤式 曝光的 原理
由林育詩著作·2008—浸潤式微影利用簡單的物理光學原理,包含折射、繞射與鑑別度,可以.同時改善解析度和焦距深度。使用原有微影系統,搭配浸潤式微影,可以達到更.短光源波長的效果,對IC ...,2017年6月6日—時任台積電研發副總的林本堅博士發明了浸潤式蝕刻,一舉打...
台積公司表示浸潤式曝光顯影技術不久後可邁入量產
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2006年2月22日—浸潤式曝光顯影技術係使用水或類似的清澈液體當作成像的介質。在曝光機台的鏡頭與晶圓片間加入水作為介質,能夠得到更高解析度的光源,以便製造面積更小 ...
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