metal gate半導體
...極(High-kMetalGate,HKMG)的後閘極(Gate-last)技術為主。相較於前閘極(Gate-first)技術,後閘極技術具備較低的漏電流以及能提供更佳的晶片效能等優勢。,2007年12月24日—high-k/metalgate技術預計可在2009-2010年達到32nm世代的量產化,如圖一所示,藉此技...
Low k、High k到底在幹嘛? - ryanwu
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2008年6月20日—事實上在Intel發表正式研發成功Highk/MetalGate技術前,半導體業界早已在討論Highk技術,原本預測2007年此項技術就會開始盛行,不過此預測稍過樂觀, ...
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