EUV光源 原理
2019年1月25日—半導體製程的原理是「差異蝕刻」:半導體基板上被光照射的區域會發生化學...圖二、EUV光源的產生。在2000年初,EUV製成的可行性被確認。但直到最近 ...,,2023年3月10日—極紫外光(Extremeultraviolet,EUV)是波長小於13.5奈米的光,使用EUV作為光源的...
极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势
- 浸潤式微影技術
- what is immersion lithography
- immersion lithography
- 台積電浸潤式曝光
- EUV光源 原理
- euv光源
- EUV光源 原理
- duv euv
- arf immersion lithography
- euv原理
- 微影技術原理
- Double Patterning 原理
- EUV lithography 原理
- EUV 曝光 原理
- 台積電 浸潤式 曝光的 原理
- euv原理
- lithography意思
- 濕式微影
- arf immersion
- euv光源
- EUV 優點
- 光罩原理
- euv波長
- 浸潤式immersion微影技術
- 微影 技術應用
由林楠著作·被引用7次—5nmEUVL光源的原理和最新进展,分别从驱动光源、靶.材、收集镜等关键子系统展开介绍。讨论了激光等离子体光源进一步发展过程中需要解决的问题,如提升激发光.功率 ...
** 本站引用參考文章部分資訊,基於少量部分引用原則,為了避免造成過多外部連結,保留參考來源資訊而不直接連結,也請見諒 **