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EUV 優點
2020年4月22日—在台積電法說會上,EUV是近年不斷提到的微影製程名稱,也是現今能在晶片上畫出最精密線路的光罩技術,究竟微影技術是什麼?在神秘的半導體無塵室如何進行 ...,除了更少的光子暴露在光刻膠上之外,EUV光刻膠也吸收更少的光子。...EUV光刻膠爭奪,未來...
新一代製程的關鍵:13.5奈米的「極端」紫外光
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- EUV光源 原理
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- 台積電 浸潤式 曝光的 原理
2019年1月25日—它的優點是波長的匹配:其波長13.5奈米和EUV常用的光學元件(通常是鉬和矽的多層結構)搭配的很好,反射率可以高達60%以上。它的缺點是副產物:受雷射照射後 ...
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