真空鍍膜

NCVM是Non-Conductive Vacuum Metallization的縮寫，中文名稱為金屬不導電真空鍍膜。在傳統的電鍍需使用電鍍溶液，負極接導體，被鍍工件接正極，藉直流電源將被鍍物帶 ...

PVD真空電鍍優點: 金屬外觀，高光亮。 顏色均勻，不退色。 良好耐候性，抗氧化，抗腐蝕。 環保製程零污染，無有害物質。 高耐磨、高硬度，不易刮傷。

A: 真空鍍膜係指整個電鍍過程中皆在真空環境進行，最常見的物理氣相沈積法(Physical Vapor Deposition, PVD)，係指利用物理方法將固體材料變成氣體而 ...

西元1987年，台灣真空鍍膜股份有限公司位於台灣台中工業區，自成立以來專注於研究蒸鍍與塗佈的相關技術，歷經幾十年的努力，我們製作出燙金箔、轉印膜、硬化膜、雷射 ...

常用鍍膜技術如圖所示，從傳統的電鍍到現今的氣相法，如物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)及化學氣相沉積(Chemical vapor deposition, CVD)兩種。

【原理】. 真空鍍膜是在高真空狀態下利用物理方法在物件的表面鍍上一層薄膜的技術。 真空是指氣壓低於一個大氣壓的氣體狀態。在真空狀態下，單位體積中的氣體分子數大.

真空鍍膜技術. PVD（Physical vapor deposition)物理氣相沉積技術:在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製作技術。主要方法包括蒸鍍、濺鍍和離子鍍。