![EUV 曝光 原理](https://host.easylife.tw/files/Immersive%20Explorer.gif)
EUV 曝光 原理
2020年12月4日—EUV,全名為ExtremeUltraviolet,中文叫做「極紫外光」,是一種波長極短的紫外光,一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米,而極紫外光才 ...,2023年3月10日—簡單來說,當工程師規劃好晶圓上各區域的功能後,會將電路圖刻在石英片上面,...
摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機
- euv波長
- EUV光源 原理
- 超紫外光
- 浸潤式微影技術
- 何謂微影技術
- DUV EUV 波長
- Double Patterning 原理
- euv原理
- immersion lithography
- lithography半導體
- 光罩原理
- 微影技術原理
- 浸潤式immersion微影技術
- duv euv
- EUV 優點
- 193奈米浸潤式微影技術
- lithography意思
- 台積電浸潤式曝光
- euv光源
- arf immersion
- 193 nm immersion lithography
- arf immersion lithography
- 雷 射 微影
- what is immersion lithography
- EUV 曝光 原理
2020年10月22日—此機的概念是由中研院院士林本堅任職於台積電所提出的,原理上當光通過液體介質的時候,其速度會變慢,也就是波長會變短。因此若將被曝光的晶圓浸泡在 ...
** 本站引用參考文章部分資訊,基於少量部分引用原則,為了避免造成過多外部連結,保留參考來源資訊而不直接連結,也請見諒 **