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lpcvd pecvd比較
PECVD与LPCVD技术差异说明-物件在經過加熱板加熱後和留下來的混合氣體產生化學反應產生模層LPCVD系統的主要優點在於具有優異的薄膜均勻度,以及較佳的階梯覆蓋能力, ...,2007年5月21日—與APCVD系統相比較,LPCVD系統的主要優點在於具有優異的薄膜均勻度,以及較佳...
化學氣相沉積
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低壓化學氣相沉積(Low-pressureCVD,LPCVD):在低壓環境下的CVD製程。降低...電漿增強化學氣相沉積法(Plasma-EnhancedCVD,PECVD):利用電漿增加前驅物的反應速率。
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