金屬氧化半導體場效電晶體MOSFET

MOSFET的电气特性. 1. MOS结构. 2. I/V特性：线型区、饱和区. 3. 电阻、电容、简单RC模型. 4. 二阶效应：. 1）沟道长度调制效应. 2）体偏效应. 3）小尺寸效应. 5. MOS 模型.

2021年11月4日 — MOS管工作在饱和区（恒流区）与BJT 的饱和区不同，称MOS管此区为饱和区，主要表示Vds 增加Id 却几乎不再增加——也即电流饱和。其实在此饱和区内，MOS管 ...

▫ Q: 形成n通道的條件為何？ ▫ A: 跨越「氧化層」的電壓必. 須超過V t. ▫ 例如：當 ... 圖5.18: n- 通道MOSFET 在飽和區下包含輸出電. 阻 的大信號與等效電路模型。

... 區或線. 性區；在VDS 比(c)點大的區域，ID 幾乎不隨VDS 改變，稱為飽和區或恆流區。歐姆區與飽和區的交界. 電壓VDSS 必需符合VGD=VGS-VDSS = Vth，即VDSS =VGS- Vth ...

當閘極的負電壓增加至某一電壓時，空乏區會佔滿整個通道，使通道內無法產生電流ID。此時VGS的電壓即為截止電壓，因此，空乏型MOSFET操作於截止區的條件為 。 空乏型 ...

圖一顯示歐姆區、非線性區以及飽和或稱主動區，這三個不同的區域代表功率MOSFET的輸出特性。 *主動區：MOSFET溝道由於有多數電荷載流子而飽和ID獨立於VDS。ID僅由VGS ...

MOS受到基板效應影響，臨界電壓會有所改變，公式如下：. V T N = V T O + γ ( V S ... 平面式的功率金氧半場效電晶體在飽和區的特性比垂直結構的對手更好。垂直式功率金 ...

2022年11月21日 — NMOS的饱和区条件： Vds≥Vgs-Vth，即Vd≥Vg-Vth，这个已经根深蒂固了。 但PMOS涉及到负号，理论上可以依葫芦画瓢，在实际应用中新手还是容易混淆。