intel metal gate
12High-kandmetalgatetechnologyproposedbyIntel(productionyear:2007)[26].Sourcepublication.Fig.1.1ImagesofdifferentsemiconductorNWs.(a) ...,2007年12月24日—Intel和IBM兩家公司在2007年1月相繼發表了high-k/metalgate的實用化時程,兩家公司自2007下半年到20...
Key Migration of Semiconductor CMOS Technology
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2020年11月28日—另外,製程上也將原先的多晶矽閘極(PolyGate)替換為金屬閘極(MetalGate),多為TaN或是TiN金屬材料,再進一步改善多晶矽空乏區(PolyDepletion)造成的閘 ...
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