EUV光源 原理
2019年1月25日—半導體製程的原理是「差異蝕刻」:半導體基板上被光照射的區域會發生化學...圖二、EUV光源的產生。在2000年初,EUV製成的可行性被確認。但直到最近 ...,,2023年3月10日—極紫外光(Extremeultraviolet,EUV)是波長小於13.5奈米的光,使用EUV作為光源的...
藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射
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EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案:透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但如何先形成電漿?發生器讓錫 ...
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