193 nm immersion lithography
2015年7月23日—Theneedtoextend193nmimmersionlithographynecessitatesthedevelopmentofathirdgeneration(Gen-3)ofhighrefractiveindex(RI)fluids ...,2023年6月15日—“Theminimumresolutionofcurrentimmersion193scanners,with1.35NA,is80nm,withdoublepatterningth...
簡單的光學突破3C 科技瓶頸:浸潤式微影
- Double Patterning 原理
- 雷 射 微影
- immersion lithography
- immersion lithography ppt
- arf immersion lithography
- 超紫外光
- lithography半導體
- 193 nm immersion lithography
- lithography半導體
- 193 nm immersion lithography
- 台積電浸潤式曝光
- euv原理
- Overlay 半導體
- 台積電浸潤式曝光
- EUV lithography 原理
- immersion lithography ppt
- arf immersion
- EUV光源 原理
- 193 nm immersion lithography
- immersion lithography ppt
- arf immersion lithography
- duv euv
- arf immersion lithography
- 何謂微影技術
- 193 nm immersion lithography
由林育詩著作·2008—,(2005),'25nmImmersion.Lithographyat193nmWavelength',in,.Microlithography,(InternationalSocietyfor.OpticsandPhotonics).Page6.34.林育詩.
** 本站引用參考文章部分資訊,基於少量部分引用原則,為了避免造成過多外部連結,保留參考來源資訊而不直接連結,也請見諒 **